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一、主要技術要求：

1）工作室尺寸：D×W×H≥ 450×1100×500

2）支援樣板數量：150×75mm約40塊

3）溫度範圍： RT＋10℃～70℃　

4）濕度範圍： ≥95％R.H

5）濕度均勻度：±2%以內

6）溫度均勻度：±2℃以內

7）濕度波動度：±2%以內

8）樣品與燈管距離：50mm

9）紫外波長： 290nm～400nmUV-A

10）燈管功率： 40W

11）水槽水深要求：自動控製

12）黑板溫度：40℃～65℃

13）試驗時間：0-999H可調

14）設備需要具有噴淋功能

15）溫度控製器： 采用台灣台達觸控式熒幕控製器+日本三菱PLC控製係統；

16）時間控製器：采用日本歐母龍時間計算機集成控製器  

17）光照加熱係統： 全獨立係統，鎳鉻合金電加熱式加熱器

18）凝露加濕係統： 全不鏽鋼淺表麵蒸發式加濕器

19）黑板溫度： 雙金屬黑板溫度計

20）供水係統： 加濕供水采用自動控製

21）暴露方式： 濕汽冷凝暴露，光照輻射暴露

22）安全保護：　漏電、短路、超溫、缺水、過電流保護/控製器停電記憶